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下列哪一项不是天然水的三大杂质之一( )。
气相色谱法测定干法H2的组分岗位存在的环境因素是( )。
露点法测定气体中水分的设备环境要求是保持工作环境高纯卫生,温度4-40度,相对湿度小于( ),现场整洁,无腐蚀性气体,不得有电路和火种。
RO反渗透技术是利用( )为动力的膜分离过滤技术。
人们通常将水分为纯水和( )。
离子交换树脂是一种高分子化合物,是由树脂的骨架和( )两部分组成。
对三氯氢硅中痕量杂质的分析采用蒸发法使用微量高纯水和SiHCL3作用产生少量( )水解物,对痕量杂质元素有吸附作用。
纯水制备系统混床的再生反洗的目的是( )。
以下那一项不是三氯氢硅中痕量磷的气象色谱测定步骤中,在温度680度和石英石的催化作用下,样品及其含磷杂质分别被氢还原产物( )。
制取高纯水时一般采用( )交换树脂和( )交换树脂。
RO系统清洗过程中RO膜污染原因与使用药剂搭配错误的是( )。
混床的再生具体操作步骤正确的是有( )。
以下DUI 纯水制备系统中多介质过滤器注意事项叙述错误的是( )。
离子交换法制备纯水时,新树脂的预处理方式是( )。
自动软化系统注意事项下述叙述正确的是( )。
混床的再生中是两种树脂充分混合的方法有( )。
高纯水的检测时,测量方法有( )。
X射线形貌技术的试验方法有( )。
下列哪三项是天然水的三大杂质( )。
自动软化系统反洗的目的是( )。
为了使氢离子和氢氧根离子完全结合成水,阴、阳树脂必须交换出等量的离子。
只有多介质过滤器处于运行时才能对活性炭过滤器进行日常维护。
硅单晶中线度小于10-4cm的缺陷称为微陷。
对三氯氢硅中硼的分析采用蒸发法。
RO系统清洗过程应密切注意清洗液温度上升,不得超过35℃。
气相色谱法测定干法H2的组成存在的环境因素是潜在的液氮低温冻伤。
制取高纯水时一般采用强酸型阳离子交换树脂。
露点法检测气体存在的危险是氢气泄露引起的燃烧核爆炸。
离子交换法制备纯水用阴树脂可以得到高纯水。
纯水制备系统反渗透系统要把浓水调节阀和进水调节阀完全关闭。
将下列活性炭过滤器工作原理一一对应。 (1)反洗 (2)运行 (3)正洗
将下列离子交换树脂的类型与变型用化学试剂用量浓度一一对应。 (1)强酸型离子交换树脂 (2)强碱型离子交换树脂 (3)干树脂
将下列RO膜污染原因与适应药液一一对应。 (1)碳酸盐结垢 (2)有机物污染及硫酸盐结构 (3)细菌污染
将下列三氯氢硅中硼的分析试剂一一对应。 (1)纯水 (2)氢氟酸 (3)Be 标准液
将下列混床树脂再生步骤与内容一一对应。 (1)逆流分层 (2)碱液再生阴离子交换树脂 (3)酸液再生阴离子交换树脂
将下列混床再生中操作步骤一一对应。 (1)逆洗分层 A.再生剂为5%的NaOH,用量为树脂体积的3-5倍,从上口进入,控制一定流速,维持液面顺流通过 (2)强碱性阴离子交换树脂再生 B.水从底部进入,上口排出,树脂均匀地松弛蓬松开来,可加大水流速以冲不出树脂为原 则,洗至出水清高度 (3)强酸性阳离子交换树脂再生 C.再生剂为5%盐酸,用酸量为阳离子交换树脂体积的2-3倍
将下列气相色谱法测定干法H.的组分时样品测试各恒温系统与温度一一对应 (1)层析室 (2)检测室 (3)气化室
将下列质谱分析造成其误差较高的因素与原因一一对应。 (1)杂质不均匀 (2)各元素电离效率 (3)谱线黑度
将下列天然水中杂质三大部分情况一一对应。 (1)悬浮物质 (2)胶体物质 (3)溶解物质
将下列分析项目与分析方法一一对应。 (1)三氯氢硅中硼的分析 (2)三氯氢硅中痕量磷的气相色谱测定 (3)X射线形貌技术